常見問題

EDI模塊內(nèi)部容易滋生細菌嗎？

發(fā)布時間： 2019-06-06

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電去離子（EDI）技術可以從水源中去除殘留的鹽和可電離的含水物質，如二氧化碳、二氧化硅、氨和硼。 EDI系統(tǒng)無化學操作，實現(xiàn)97％水回收，僅消耗電力。EDI模塊可以應用在多個行業(yè)，包括火力發(fā)電廠鍋爐補給水、半導體和微電子行業(yè)用純水、制藥用純化水。

       EDI電流密度的增加以及淡水室中樹脂表面水解離不斷產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子，可使淡水室的局部pH值發(fā)生變化，在特定的地方產(chǎn)生高pH區(qū)和低pH區(qū)。這些極端pH值區(qū)被認為是在EDI模塊內(nèi)部創(chuàng)造了一個特定的有利于抑制細菌的快速繁殖的環(huán)境，尤其是在產(chǎn)水側，他們是非常關鍵的。同時，由于陰離子交換樹脂表面帶正電荷，而細菌（尤其是對制藥用水影響較大的革蘭陰性菌）帶負電荷，使其易被吸附到陰離子交換樹脂表面，處于水解離最活躍的部位。從而使其生長受到抑制甚至被殺滅，大大減輕了EDI產(chǎn)水受細菌內(nèi)毒素污染的程度。

關于這個主題的研究已于1990年有Millipore出版，他們發(fā)現(xiàn)一個周期性消毒的RO-EDI系統(tǒng)細菌和內(nèi)毒素的數(shù)目并不是很多，EDI流出的數(shù)目和進水相似。如果原先實行的消毒制度停頓三個月，濃水流中細菌的數(shù)目就要增加，但是產(chǎn)水中就不會出現(xiàn)這種現(xiàn)象。他們的結論是，在EDI模塊中最關鍵的產(chǎn)水一側，這些pH值確實扮演著創(chuàng)造特定生物環(huán)境的重要角色。最好的細菌消毒方法是保持單元正常運行，在這種模式中，細菌群體不會增長，尤其是在產(chǎn)水側。